1、應(yīng)用范圍概述：

電解電容器生產(chǎn)、鋁箔及工作件的清洗，電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液，顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水，黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水 ，液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液，晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片等；醫(yī)藥純化水，化妝品用水，電子工業(yè)高純水，電鍍件的清洗及配料，太陽(yáng)能清洗，單晶硅片清洗，打印色漿的配料，蓄電池用水。

2、達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)

純化水標(biāo)準(zhǔn)，注射水標(biāo)準(zhǔn)，國(guó)家電子級(jí)純水標(biāo)準(zhǔn)，美國(guó)SEMI標(biāo)準(zhǔn)，顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)， 集成電路用純水水質(zhì)。

3、設(shè)備特點(diǎn)

為滿(mǎn)足用戶(hù)要求，達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)，盡可能地減少各級(jí)的污染，延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命、降低作人員的維護(hù)工作量。在工藝設(shè)計(jì)上，取達(dá)國(guó)家自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水，設(shè)計(jì)合理預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（或EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等。 系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人職守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶(hù)要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設(shè)備可靠性。